계측 장치
계측 장치
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특허 출원일자 : 2017.04.20
특허 등록일자 : 2019.09.06
특허 등록번호 : 10-2021400-0000
계측 정밀도의 향상을 도모함과 동시에, 계측 효율의 향상을 도모할 수 있는 계측 장치를 제공한다. 계측 장치(1)는, 촬상계(4A, 4B)에 의해 촬상하여 얻어진 간섭무늬 화상에 기초하여, 워크 W의 소정의 계측 영역 내에 미리 설정한 일부의 z 위치 조사 영역에 대해, z 방향의 복수 위치에 있어서의 복소 진폭 데이터를 취득한다. 계속해서, 상기 복수 종류의 복소 진폭 데이터로부터 z 위치 조사 영역에 따른 복수 종류의 강도 화상을 취득하고, 상기 복수 종류의 강도 화상에 기초하여 z 위치 조사 영역의 z 방향에 있어서의 위치를 결정한다. 그리고, 이 위치에 있어서의 복소 진폭 데이터를 계측 영역 전체에 대해 취득하여, 계측 영역에 따른 삼차원 계측을 실행한다.
대표변리사 김순웅 |
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